半導體
應用挑戰及應用領域
工藝 | 冷凝 | 腐蝕 | 粉塵 | 熱反應 | 可燃氣體pumping | 推薦産品 |
ALD | Y | Y | Y | Y | Y | GHC |
PECVD | Y | Y | Y | Y | GHC | |
LPCVD | Y | Y | Y | Y | GHC | |
SACVD | Y | Y | Y | Y | GHC | |
MOCVD | Y | Y | Y | GHC | ||
MetalEtch | Y | Y | GHC |
● GHC系列幹泵,可應用于清潔工藝、一般工藝和苛刻工藝制程,處理粉塵能力極強,是苛刻工藝應用的優選,并且可靠性高,使用成本極低。
● 适合多樣化市場,廣泛應用于半導體、面闆顯示等行業。
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應用挑戰及應用領域
工藝 | 冷凝 | 腐蝕 | 推薦産品 | 備注 |
IMPsource | Y | GMR | ||
Strip/Ashing | GMR | |||
OxideEtch | Y | GMR | ||
PolyEtch | Y | GMR | ||
MetalEtch | Y | Y | GMR | 用于6寸與8寸Feb |
HDP | Y | GMR |
應用挑戰及應用領域
工藝 | 冷凝 | 推薦産品 |
loadlock | GLR | |
Transfer | GLR | |
PVD | GLR | |
Coater | Y | GLR |
● GLR系列幹泵,可應用于清潔工藝、一般工藝,并且可靠性高,使用成本極低
● 适合多樣化市場,廣泛應用于半導體、面闆顯示、LED、锂電和太陽能光伏等行業
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