半導體

應用挑戰及應用領域

 

工藝 冷凝 腐蝕 粉塵 熱反應 可燃氣體pumping 推薦産品
ALD Y Y Y Y Y GHC
PECVD Y Y Y   Y GHC
LPCVD Y Y Y   Y GHC
SACVD Y   Y Y Y GHC
MOCVD Y     Y Y GHC
MetalEtch Y Y       GHC

新型一體爪式真空泵 GHC系列

● GHC系列幹泵,可應用于清潔工藝、一般工藝和苛刻工藝制程,處理粉塵能力極強,是苛刻工藝應用的優選,并且可靠性高,使用成本極低。 ● 适合多樣化市場,廣泛應用于半導體、面闆顯示等行業。
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應用挑戰及應用領域

 

工藝 冷凝 腐蝕 推薦産品 備注
IMPsource Y   GMR  
Strip/Ashing     GMR  
OxideEtch Y   GMR  
PolyEtch   Y GMR  
MetalEtch Y Y GMR 用于6寸與8寸Feb
HDP   Y GMR  

多級羅茨真空泵 GMR系列

● GMR系列幹泵,可應用于清潔工藝以及一般嚴苛工藝; ● 可靠性高,使用成本極低; ● 主要适用于半導體行業刻蝕與離子注入工藝腔。
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應用挑戰及應用領域

 

工藝 冷凝 推薦産品
loadlock   GLR
Transfer   GLR
PVD   GLR
Coater Y GLR

多級羅茨真空泵 GLR系列

● GLR系列幹泵,可應用于清潔工藝、一般工藝,并且可靠性高,使用成本極低 ● 适合多樣化市場,廣泛應用于半導體、面闆顯示、LED、锂電和太陽能光伏等行業
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